真空镀膜机使用前要检查什么
1、主机齿轮箱、牵引减速箱应该时常加油，更换齿轮油。
2、新机请在使用10天左右更换新齿轮油，以确保各转动部位正常运转。
3、注意加油，防止卡住和过热损坏。
4、还应检查各连接部位的固紧情况，防止罗栓松动。
5、泡管中的压缩空气应保持适量。
6、启动主电机时，应先启动电机后慢慢加速；关闭主电机，应先减速后再关机。
至成真空科技有限至成真空科技，在安装车灯镀膜机的时候应该注意调整好挤出机机头中心线和牵引辊中心保持水平垂直，收卷时由于收卷外径逐渐增大车灯镀膜机请注意牵引速度与收卷速度的配合，请及时调整。主机开启后，密切注意主机运行情况。
真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能
真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能良好的半导体电极Al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。
采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。
真空镀膜的过程中产生的斑点如何处理？
针对喷点、潮斑(花斑)的成因,在生产中采取了以下一些措施以消除喷点、潮斑(花斑):
1、选择可靠的材料供应商,并对购买的每批材料在投入使用前先做一测试,判定材料的可靠性。
2、规范材料的领用、保管,(干燥缸,干燥剂)保证材料不受潮,材料性质无变化。
3、规范镀膜操作,严格执行预熔、蒸镀的操作规程。蒸镀前的材料预熔一定要彻底,镀制某些较厚的膜层时可以采用多次预熔的方法消除喷点。
4、规范清洗操作,加强清洗后的检查,提高清洗质量,消除因清洗而产生的潮斑(花斑)。
5、调整烘烤温度,消除烘烤原因产生的潮斑。
6、规范镀膜夹具的管理。每次投入使用前,夹具需要先经过清洗、烘烤(300度,3小时以上)才能投入生产。
7、设计镀膜夹具时,尽量采用在真空室内放气量小的材料,同时可采取夹具表面镀Ni的方法降低夹具的放气量,消除由此产生的潮斑(花斑)。
