至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机
至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机是研究超导、类金刚石、光学、磁性等高质量薄膜和材料表面改性的光机一体化的现代化镀膜设备。该机采用四靶、双离子源、离子源为考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正离子束或中性粒子轰击靶材料，使材料表面的原子和分子从母材中溅射出来，沉积在基片上成膜。可镀制任意材料，包括金属、合金、超导体、半导体、绝缘体等。该机采用80年代刚刚发展起来的离子束溅射技术，利用双离子源、主枪，对靶材轰击，辅枪在镀前对基片进行清洗，增强基片的活性，提高结合力及纯度。沉积过程中低能轰击膜，增强沉积原子表面扩散和迁移，减少薄膜结晶结的缺陷，并配有对基片处理的各种功能，如加热、冷却、旋转、激光处理、掩膜等。引出栅φ25mm离子能量，1500ev能量束流大于80mA。
光学真空镀膜设备该如何进行**
光学真空镀膜设备主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜（控制电柜、电子枪电枢）组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在防止油污染和缩短工作周期等方面具有的性能。
光学真空镀膜设备工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。
磁控溅射真空镀膜机的主要用途有哪些
磁控溅射技术在市场上运用非常广泛，也受到了众多商家的采纳，自然磁控溅射真空镀膜机也被众多商家认可，下面至成真空小编为大家详细介绍一下磁控溅射真空镀膜机的主要用途：
（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。
（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
（3）在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（CVD）或金属有机
（4）化学气相沉积（CVD）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
（5）在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
（6）在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域，还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用
