公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
使用无掩模光刻机读取版图文件,对带胶的空白掩膜版进行非接触式**(**波长405nm),照射掩膜版上所需图形区域,使该区域的光刻胶(通常为正胶)发生光化学反应
经过显影、定影后,**区域的光刻胶溶解脱落,暴露出下面的铬层






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随着冲版量的不断增加和空气中的CO2不断溶入,光刻版,显影液中的OH-浓度会下降,pH值将越来越低,显影时间应慢慢变长,至后在正常**条件下PS版无法显影,这就是显影液疲劳的现象。但随着显影液pH值的降低,碱液对氧化层和涂层树脂的腐蚀力下降,版材的网点再现性及耐印力比用新配制的显影液好一些。但必须注意两点,一是冲版量必须控制在显影液容许范围内;

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光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像至相片上。

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