真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。催化液和传统处理工艺相比，在技术上有哪些创新？1、多弧离子镀膜不用电、降低了成本、成本仅为多弧离子镀膜镍的二分之一，真空镀膜机多弧离子镀膜铬的三分之一，不锈钢的四分之一，可反复利用，大大降低了成本。2、多弧离子镀膜易操作、工艺简单、把金属基件浸入兑好的液体中“一泡即成”，需要再加工时不经任何处理。
镜面塑胶模具涂层设备
近年来，有镜面要求的塑料产品越来越多，比如液晶电视的底座、面框、甚至后盖。这就给对应的镜面模具提出了很高的要求，也带来了很多的烦恼：制造成本高，使用寿命短，甚至在做表面清洁时都会刮花模具，反复抛光耽误生产且成本高昂……通过镜面塑胶模具涂层设备镀膜可以很好的保证模具的镜面效果（蚀纹/咬花面的效果也一样可以完全保持）；也正因为如此，如果模具表面镀前有乱花、白点等异常，我们的涂层不可能将其掩盖，所以在涂层前需要保证模具表面已经达到使用的要求。
影响镀膜机磁控靶点火电压的因素有哪些
靶材对点火电压的影响
(1)阴极靶材的不同材质，因溅射的能量阀值的不同，一般溅射“逸出功”较小的阴极靶材，其点火电压和工作的电压要低一些，反之则会高一些。(2)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁等)和铁素体靶材，会偏转和减少阴极溅射靶面磁场对磁控靶造成影响。靶面磁场的降低，使磁控靶需要很高的电压才能点火起辉。(3)点火电压与磁控靶靶材溅射面积和真空腔体的机械尺寸大小有关。靶材溅射面积大，或是真空腔体的机械尺寸大，相应充入工作气体的数量值较多，在同一阴-阳极电压下，工作气体例如气电离出导电正离子和电子亦增多，导致点火电压下降(在镀膜时还会造成磁控靶溅射电压一定程度上的降低)。
磁控溅射镀膜靶电源的空载电压
(1)靶电源输出的空载电压主要供磁控靶“点火起辉”用，其峰值电压大体可分为三挡，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大约在5KW以下的靶电源输出空载电压的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶电源其输出的空载电压的峰-峰值Vp-p大约在800~1KV;且电源功率越大,其输出的空载电压越接近偏小值。(3)铁磁性靶材(铁、钴、镍、氮化铁)以及其它铁素体靶材，在选用靶电源输出的空载电压时，须选择靶电源输出空载电压峰-峰值Vp-p范围的偏大数值。