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在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际**中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复i制过来。





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石英岩的原岩可以是:单矿物石英砂岩,含泥质、钙质石英砂岩,胶体沉积的硅质岩(包括陆源碎屑溶解再沉积的硅质岩和与火山喷气有关的硅质岩)和深海虫硅质岩等。不同原岩形成的石英岩,可根据结构、变晶程度、副产物、岩石共生组合及产状等加以区分。

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目前**范围内光刻掩膜版主要以**生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低,且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒,所以光刻掩膜版都是由**的生产商进行生产。

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