冷成型模真空镀膜机
高强度材料成形冷成型模真空镀膜机高强度金属成型中存在的高成型压力和产生的摩擦成为工模具和涂层要面对的重要挑战。PVD和CVD涂层展示的韧性、耐磨性和抗磨损性能显著提高工具的生产能力。
HC90Concept，作为一种无需氮化处理的新型物**相沉积（PVD）涂层，对于这些应用领域来讲是非常理想的解决方案。HC22，HC25，HC30或HC62，均结合了氮化处理，对于公差要求高的工具是非常合适的涂层方案。HC02和HC62是非常适合公差要求不高工具的涂层方案。
有色金属材料成型有色金属材料通常比一般钢材有更好的成形性，但其表面更难改变。HCPVD和PACVD涂层工艺的韧性、耐磨性、低摩擦和抗磨损性能够显著加强工具的生产能力，提高零部件的质量。冷锻冷锻是一种将固定大小的金属块组合成等量的复杂形状的成型工艺。此过程中的工模具要经受高强度的压力和高速率，和工件接触的表面必然会产生磨料和粘着磨损。HCPVD和PACVD和HCCVD涂层工艺的韧性、耐磨性和低摩擦性能能够显著提高工模具的使用寿命和产品的质量。
常用的光学镀膜有哪些？
二，光学薄膜
减反射膜是应用广、产量大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的**是寻找新材料，设计新膜系,改进淀积工艺,使之用少的层数，简单、稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到理想的效果。对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤的薄弱环节，如何提高它的*坏强度，也是人们关心的问题之一。
反射膜
它的功能是增加光学表面的反射率。反射膜一般可分为两大类，一类是金属反射膜，一类是全电介质反射膜。此外，还有把两者结合起来的金属电介质反射膜。
一般金属都具有较大的消光系数，当光束由空气入射到金属表面时，进入金属内部的光振幅迅速衰减，使得进入金属内部的光能相应减少，而反射光能增加。消光系数越大，光振幅衰减越迅速，进入金属内部的光能越少，反射率越高。人们总是选择消光系数较大，光学性质较稳定的那些金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄膜材料是铝，在可见光区常用铝和银，在红外区常用金、银和铜，此外，铬和铂也常用作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损耗大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层，组成金属电介质反射膜。需要指出的是，金属电介质反射膜增加了某一波长（或者某一波区）的反射率，却*坏了金属膜中性反射的特点。
真空镀膜技术优点
清洗过程简化：现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。
可镀材料广泛：离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层**的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。