镀膜设备该选择哪种主泵配置真空系统在镀膜设备行业中可谓是非常重要，是其不缺缺少的设备之一。目前常用的真空系统结构形式一般是由主泵及前级泵串联，加上阀门管道和真空测量仪表组成。而所选的主泵基本上分为两种形式，分别为有油真空和无油真空系统。那么什么是有油真空系统和无油真空系统呢？下面小编来给大家介绍一下：有油真空系统基本是以油扩散泵为主泵，前级泵采用机械泵或者罗茨泵。我们知道，油扩散泵的压力方位比较大，同时抽气速率非常的高，能够达到每秒十几万升。其工作能力在业内是数一数二的，这也得益于其具有良好的性能。从优点上来讲，有油真空系统工作可靠，没有振动，没有噪音，寿命长，维护建档透支费用低，是很多厂家都喜欢使用的。但是其缺点也非常的明显，就是会形成污染源，大规格泵在这方面更加的严重。无油真空西永是使用分子泵和低温泵作为主泵的，其特点主要集中在能够连续大量抽气，可以获得清洁无油的超高真空。并且该系统启动时间快，停泵时间短。但是该系统抽重气体比抽轻气体快，对水蒸气类型的的抽速比较慢，当气体大量经过泵的时候，抽速就会下降的很快。这两种真空镀膜设备各有各的优点和缺点，使用者应该考虑自己的需求来进行选购。
真空镀膜机真空器件的常用检漏方法
真空镀膜机真空器件的常用检漏方法 依据电真空器材的结构特色及丈量精度要求，常用的有两种检漏办法，即氦罩法和喷吹法（这两种检漏办法具体介绍可见：氦罩法和喷吹法的氦质谱检漏仪检漏常见办法）。检漏时，先用氦罩法进行总漏率的测定，当总漏率超出答应值后再用喷吹法进行漏孔的认位。氦罩法是被检件与检漏仪衔接抽真空到达检漏状况后，用一个充溢氦气的查验罩，把被检件全体或部分的表面面包围起来，如图4所示。查验罩充氦时先将罩内空气排出再充氦，以确保罩内氦浓度尽可能挨近100百分之，被检件上任何地方有走漏。检漏仪都会有漏率值改变，显示出漏率值。氦罩时刻也要继续3~5倍检漏仪呼应时刻。A***192T2氦质谱检漏仪反应时刻小于0.5s,因而氦罩时刻30s即可。氦罩法可方便地测定被检件总漏率，不会漏掉任何一处漏点，但不能确认漏孔方位。喷吹法是将被检件与仪器的真空体系相连，对被检件抽真空后用喷枪向漏孔处吹喷氦气。当有漏孔存在时，氦气就经过漏孔进入质谱仪被检测出，喷吹法弥补了氦罩法不能**的缺点。
磁控溅射镀膜技术介绍磁控溅射镀膜设备是一种具有结构简单、电器控制稳定性好等优点的真空镀膜机，其工艺技术的选择对薄膜的性能具有非常重要的影响。磁控溅射镀膜技术在陶瓷表面装饰中采用的工艺流程如下：陶瓷片→超声清洗→装夹→抽本底真空→pla**a清洗→加热→通气→预溅射→抽本底真空→溅射(或多次溅射)→镀AF膜→*真空卸片→表面检验→性能测试→包装、入库。以上工艺技术就是以磁控溅射镀膜设备为基础，选用合适的靶材和溅射工艺，制备出超硬的耐磨镀层，可以实现材料的高硬度、高耐磨、高耐划伤特性；同时，利用NCVM光学膜结构设计，设计出各层不同折射率材料，可以调配出任意颜色，使得陶瓷不仅硬度高、强度高，具备外观件时尚、美观的特点，而且不会屏蔽电磁信号。磁控溅射镀膜设备配合NCVM工艺，能够实现对于陶瓷电子消费品的表面装饰处理，在保证陶瓷强度和硬度的同时，也能够提升其美观性和艺术性，更好地满足消费者的个性化需求。NCVM镀膜主要是在真空条件下，通过相应的物理化学手段来对金属材料进行转换，以粒子的方式吸附在材料表面，形成镀膜层，相比较普通真空电镀，NCVM的技术含量更高，加工流程也更加复杂。磁控溅射镀超硬膜，结合NCVM光学镀膜技术，其镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性以及致密度高等特点，已在电子产品中获得大量应用。随着电子工业的迅猛发展，NCVM镀膜凭借本身优越的性能，在真空电镀技术领域脱颖而出，成为了电子消费品生产中的一项核心技术，在保证良好处理效果的同时，也能够消除电镀过程中***元素对于**的危害，对其环境污染问题进行解决。
