真空卷绕镀膜机镀层之间的结合力
真空卷绕镀膜机镀层之间的结合力主要与以下因素有关：
1、真空镀膜设备底镀层的种类与性质。一般认为，铜层与多种金属都具有好的结合力。含铁量高达30％左右的高铁镍铁合金，在酸铜液中也会产生置换铜层，故不能用于光亮酸铜打底。
2、真空镀膜机底镀层的光亮性。真空镀膜镀层越是光亮，与其他镀层的附着力可能越差。
3、真空镀膜设备底镀层表面的清洁性。典型的是镀**盐光亮酸铜后，往往形成有机膜钝化层，应作脱膜处理。不要轻信声称镀后无需除膜的酸铜光亮剂的宣传，而在工艺流程设计时不考虑除膜工序。
因为即使新配液时可以不脱膜，随着亮铜液中有机杂质的积累或加入的光亮剂比例失调时，也会产生憎水的有机膜层。众所周知，聚乙二醇几乎是所有酸铜光亮剂中不可缺少的组分，而镀层中聚乙二醇的夹附量越大，越容易生成憎水膜层。
4、真空镀膜机底镀层的钝化性。越易钝化的镀层，其上镀层的结合力越差。镍是易钝化金属，镀镍过程中断电对间稍长，镍镀层在镀镍液中会发生化学钝化；
若未能有效避免双性电极现象(详见第四讲)；则作为阳极部分的工件局部更会发生严重的电化学钝化，在镀多县镍时特别应注意。铬比镍更易钝化，所以铬上镀铬必须有良好的活化。
铬上镀铬的情况也不少，如：装饰性套铬一次深镀能力差时作二次套铬；为兼顾抗蚀性与耐磨性，在乳白铬(基本无裂纹)上镀硬铬；钼及钼合金电镀要求用镀铬打底等。
不同类型镀膜机的适用范围介绍
随着人们生活水平的不断提高，人们对商品的装饰要求也越来越高，这便对各类商品装饰提出了新的挑战，传统上对非金属物件表面金属化或金属物件表面装饰通常采用电镀的方法。但由于传统电镀毒性大，污染严重,在环保意识逐步加强的今天,这种技术已逐渐被社会淘汰。
真空镀膜机与传统的电镀法相比，多功能真空镀膜机技术具有装饰效果好、金属感强、成本低(约为传统电镀的1／3～1／2)、污染小、易于操作等优点。特别在非金属物件的应用上,有着传统电镀无法比拟的优势。
鉴于此,真空镀膜已被广泛应用于各类非金属制品的表面金属化上：
1、磁控溅射镀膜设备：应用于信息存储领域，如磁信息存储、磁光信息存储等；
2、磁控溅射镀膜机：应用于防护涂层，如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等；
3、磁控溅射镀Al膜生产线：应用于太阳能利用领域，如太阳能集热管、太阳能电池等；
4、光学镀膜设备：应用于光学薄膜领域，如增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等；
5、AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线：应用于信息显示领域，如液晶屏、等离子屏等；
6、触摸屏连续式镀膜生产线：应用于触摸屏领域，如手机、电脑、MP4等数码产品屏幕等；
7、磁控中频多弧离子镀膜设备：应用于硬质涂层，如切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等；
8、PECVD磁控生产线：应用于集成电路制造，如薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等；
9、蒸发式真空镀膜设备：应用于在装饰饰品上，如手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜；
10、低辐射玻璃镀膜生产线：应用于建筑玻璃方面，如阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等；
11、抗反射导电膜连续磁控溅射生产线：应用于电子产品领域，如液晶显示器、液晶电视、MP4、车载显示、手机显示、数码相机和掌声电脑等；
溅镀机设备与工艺（磁控溅镀）
溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射枪（sputtergun）磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。
射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须控制参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力（5×10-1—1.0Pa），若各参数皆稳定，膜厚可以镀膜时间估计出来。
靶材的选择与处理十分重要，纯度要佳，质地均匀，没有气泡、缺陷，表面应平整光洁。对于直接冷却靶，须注意其在溅射后靶材变薄，有可能*损特别是非金属靶。一般靶材薄处不可小于原靶厚之一半或5mm。
磁控溅镀操作方式和一般蒸镀相似，先将真空抽至1×10-2Pa，再通入Ar气（Ar）离子轰击靶材，在5×10-1—1.0Pa的压力下进行溅镀其间须注意电流、电压及压力。开始时溅镀若有打火，可缓慢调升电压，待稳定放电后再关shutter.在这个过程中，离子化的惰性气体（Ar）清洗和暴露该塑胶基材表面上数个毛细微空，并通过该电子与自塑胶基材表面被清洁而产生一自由基，并维持真空状态下施以溅镀形成表面缔结构，使表面缔结构与自由基产生填补和高附着性的化学性和物理性的结合状态，以在表面外稳固地形成薄膜.其中，薄膜是先通过把表面造物大致地填满该塑胶毛细微孔后并作链接而形成．
