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北京创世威纳科技有限公司

普通会员6
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
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手机号码:13146848685
公司官网:www.weinaworld.com.cn
企业地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层
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企业概况

北京创世威纳科技有限公司成立于2008年,现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层,拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区,现在我们更专注于真空等离子体技术,成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。公司通过了ISO质量管理体系认证,获批高新技术企业,拥有4项发明专利......

轰击离子束刻蚀机品牌-轰击离子束刻蚀机-创世威纳科技(查看)

产品编号:1000000000000529948                    更新时间:2020-11-24
价格: 来电议定
北京创世威纳科技有限公司

北京创世威纳科技有限公司

  • 主营业务:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
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产品详情






离子束刻蚀机

石英晶体谐振器制作

石英晶体的谐振频率与其厚度有关。用机械研磨和抛光致薄的晶体,可制作低频器件,但频率超过20MHz时, 上述工艺已不适用因为极薄的晶片已不能承受机械应力。采用离子束抛光,可以不受此限制。石英晶体谐振器的金属引线要求重量轻、低电阻,轰击离子束刻蚀机厂家,通常用铝沉积在晶体表面沟槽中,以高电导率铝作引线电极。用离子束溅射加工晶体_上的沟槽是有效的方法。










刻蚀气体的选择

对于多晶硅栅电极的刻蚀,腐蚀气体可用Cl2或SF6,要求对其下层的栅氧化膜具有高的选择比。刻蚀单晶硅的腐蚀气体可用Cl2/SF6或SiCl4/Cl2;刻蚀SiO2的腐蚀气体可用CHF3或CF4/H2;刻蚀Si3N4的腐蚀气体可用CF4/O2、SF6/O2或CH2F2/CHF3/O2;刻蚀Al(或Al-Si-Cu合金)的腐蚀气体可用Cl2、BCl3或SiCl4;刻蚀W的腐蚀气体可用SF6或CF4;刻蚀光刻胶的腐蚀气体可用氧气。对于石英材料,可选择气体种类较多,比如CF4、CF4+ H2、CHF3 等。我们选用CHF3 气体作为石英的腐蚀气体。其反应过程可表示为:CHF3 + e——CHF+2 + F (游离基) + 2e,SiO 2 + 4F SiF4 (气体) + O 2 (气体)。SiO 2 分解出来的氧离子在高压下与CHF+2 基团反应,轰击离子束刻蚀机报价, 生成CO ↑、CO 2↑、H2O ↑、O F↑等多种挥发性气体 [3]  。

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离子束

1.蚀刻加工:离子蚀刻用于加工陀螺仪空气轴承和动压马达上的沟槽,轰击离子束刻蚀机,分辨率高,精度、重复一致性好。离子束蚀刻应用的另一个方面是蚀刻图形,如集成电路、光电器件和光集成器件等征电子学构件。太阳能电池表面具有非反射纹理表面。离子束蚀刻还应用于减薄材料,轰击离子束刻蚀机品牌,制作穿透式电子显微镜试片。2.离子束镀膜加工:离子束镀膜加工有溅射沉积和离子镀两种形式。离子镀可镀材料范围广泛,不论金属、非金属表面上均可镀制金属或非金属薄膜,各种合金、化合物、或某些合成材料、半导体材料、高熔点材料亦均可镀覆。










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