碳化硅有什么作用呢？
该品采用棕刚玉微粉经高强压力挤压，高温烧结成型，硬度适中，干净清洁，不易*碎.，碳化硅制备，反复多次使用，喷砂效果好。
1、钢铁、钢管、钢结构不锈钢制品的表面亚光处理，喷涂前喷砂除锈处理。
2、用于各种模具的清理。
3、可清除各类机件拉应力，增加疲劳寿命。
4、半导体器件、塑封对管上锡前的清理去除边刺。
5、、纺织机械及各类五金制品的喷丸强化光饰加工。
6、各种金属管、有色金属精密铸件的清理及去除毛刺残渣。
碳化硅的搬运
为了更好地保护碳化硅的釉层，必须非常小心地搬运碳化硅坩埚，以避免敲击、碰撞或掉落，并且不得在地面上水平运输碳化硅。碳化硅坩埚釉层一旦损坏，将导致碳化硅在使用中氧化老化。碳化硅应由带衬垫的手推车(或其他合适的搬运工具)小心搬运。水分通常在75~100度时蒸发很快，所以在这个温度下温度必须缓慢上升;2小时后，将碳化硅坩埚预热至150~200℃，保持1小时，然后每小时升温至150℃。由于碳化硅壁在315~650℃的温度范围内会发生快速氧化，废碳化硅，氧化不仅会缩短碳化硅的寿命，还会由于热导率的降低而影响其使用性能，碳化硅，因此碳化硅不需要在该温度范围内停留太长时间。
碳化硅在半导体范畴的使用
碳化硅一维纳米资料因为本身的微观描摹和晶体结构使其具有更多独特的优异功用和愈加广泛的使用远景，被普遍认为有望成为第三代宽带隙半导体资料的重要组成单元。
第三代半导体资料即宽禁带半导体资料，又称高温半导体资料，碳化硅，首要包含碳化硅、氮化、氮化铝、氧化锌、金刚石等。这类资料具有宽的禁带宽度（禁带宽度大于2.2ev）、高的热导率、高的击穿电场、高的抗辐射才能、高的电子饱和速率等特点，适用于高温、高频、抗辐射及大功率器件的制造。第三代半导体资料凭借着其优异的特性，未来使用远景非常宽广。
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