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氧化铝

性

能

本产品呈白色微粉，异形抛光机，粒度均匀，易于分散，化学性能稳定，高温收缩

性能适中，具有良好的烧结性能。此抛光氧化是用特殊工艺制成的不

同等级的特殊抛光产品，它与天然的抛光材料相比有着众多优点，在其使

用过程中不受压力和温度影响，不锈钢异形抛光机，物理性能保持不变。

主要用途

本产品是生产耐热、耐磨、耐腐产品及研磨制品的原料。

晶型结构

：该产品是由无数个小晶体聚集而形成，晶体尺寸大小取决

于煅烧程度。由无数个结晶体团聚形成，晶体的尺寸大小取决于煅烧的温

度。煅烧温度越高，晶体的尺寸就越大。煅烧温度的高低决定微粉抛磨硬

度，大的晶体制成的产品可以用于研磨或磨削粗抛，而小的原晶可以用于

精细抛光处理；该产品原晶体异常坚硬，莫氏硬度仅仅比金刚玉低一级。

该抛光工业用煅烧氧化铝在许多工业过程有着不同的应用，作为精细研磨，

表面腐蚀（水磨蚀）和抛光（磨光、水抛光、转桶抛光）的优良原材料。

主要特点

:

原始晶体及其聚集体具有*碎性质；原始晶体坚硬；损坏和

未损坏的晶体具有米粒状形状；宽泛的工作温度，高熔点和良好的抗热冲

击性；适用性和低吸油性；粒度均匀，无杂质。

该抛光氧化铝可以单独使用或者做为组分在抛光蜡中应用。抛光蜡中

组合剂与抛光介质的比例按用途不同而变化，可以手工使用或在自动抛光

过程中使用，常见的使用方式是：直接使用，不添加任何添加剂；在水

中或油中形成悬浮液；在水中或油的乳液混合使用；与油膏混合使用；与

固体膏状物形成抛光条

4）抛光的技术

由于抛光主要是靠人工完成，所以人的技能目前还是影响抛光质量的主要原因。

一般认为抛光技术影响表面粗糙度，其实好的抛光技术还要配合的钢材以及正确的热处理工艺，才能得到满意的抛光效果；反之，抛光技术不好，就算钢材再好也做不到镜面效果。

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不同类型抛光应注意的事项

（1）模具砂纸打磨和油石研磨应注意的事项

1）对于硬度较高的模具表面只能用清洁和软的油石打磨工具。

2）在打磨中转换砂号级别时，工件和操作者的双手必须清洗干净，避免将粗砂粒带到下一级较细的打磨操作中。

3）在进行每一道打磨工序时，砂纸应从不同的45°方向去打磨，直至消除上一级的砂纹，当上一级的砂纹清除后，必须再延长25%的打磨时间，然后才可转换下一道更细的砂号。

4）打磨时变换不同的方向可避免工件产生波浪等高低不平。

（3）热处理工艺

如果热处理不当，钢材表面硬度不均或特性上有差异，会给抛光造成困难。

CMP，即Chemical

Mechanical Polishing，化学机械抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。

CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术初是用于获取高质量的玻璃表面，如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，异形抛光机厂家，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM

的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，东莞异形抛光机，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的"软磨硬"原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。