多层减反增透膜在工艺上一般有以下特点：
（1）一般在镜头的片的第二面或第二片上镀多层减反膜，以增加装饰效果。多层宽带减反增透膜以翠绿色较多，比较美观。
（2）一般在曲率半役较大的表面上镀多层膜，以便在工艺上使多层膜的膜色保证均匀。
（3）一般在低折射率材料的镜片上镀膜。对单层减反膜而言，低折射率基底的减反效果不如高折射率基底的减反效果。而对多层膜而言，多层膜的设计可以在不同折射率基底的材料上实现几乎相近的减反效果。
（4）根据经验，镀膜面数在16个左右时，选用2个面镀多层膜；镀膜面数在10个左右时，选用一个面镀多层膜即可基本满足技术要求。选用多层减反膜，一般在同牌号的玻璃，或折射率接近的不同基底上实施。这样可以只设计一种多层膜膜系。更重要的是，从工艺实施上更为方便，从品质保证上更为有利。
真空镀膜机镀铝时,应该注意哪些事项
用真空镀膜设备镀铝膜，基本工艺流程为：预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。预真空对镀膜室抽真空至5×10，2Pa时，充入Ar气430mL，利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用，轰击时间为150s;镀铝部分蒸发器快速升至高温，铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多;采用二次离子轰击，去除膜表面粒状颗粒，使膜层更加致密，轰击时间为80s;镀保护膜时间为(200&plu**n;50)s，真空度为3×10?2Pa，由充入的硅油流量加少量Ar气来控制真空度，硅油流量由调节阀控制，直至放气结束。
真空镀膜机镀膜层厚度范围真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本专利提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室分为上室，左下室和右下室。蒸镀时，两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等。
