真空镀膜过程的均匀性到底多重要？
真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
1、厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2、化学组分上的均匀性：
就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
3、晶格有序度的均匀性：
这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
主要分类有两个大种类：一、对于蒸发镀膜：一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；2、基片表面温度；3、蒸发功率，速率；4、真空度；5、镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率.
真空镀膜设备如何选配真空泵部件
一、在选真空泵时，首先要注意真空泵在工作时产生的振动对工艺和环境是不是存在着影响，如果工艺过程受到影响，应该采取防振措施或者另选真空泵。在选择的时候需要了解待抽气体的成分，如果需要选择性的抽气，一种泵可能不足以满足要求，必须组合多种不同的泵互相配合工作，如果真空镀膜设备镀膜要求无油则要选用无油泵。
二、真空泵的价格和维修费用也是我们考虑的**之一。
三、真空镀膜设备对于真空度的极限要求和工作压力强度要求越来越大，对真空泵的抽真空能力要求就越高，起码泵的极限抽真空度要高于真空设备工作真空度的半个数量级以上。每种泵都有一定的工作压强范围，譬如像扩散泵的压强为3~10-7mmHg，其稳定工作压强范围为5*10-4~5*10-6mmHg，那么使用扩散泵就不能让其在未定工作压强范围之外工作。
四、当泵需要的气体压力不高或所需的真空度不高的时候，可优先在单级泵中进行选择，度过排气压力或真空度的要求比较高，单击泵往往不可以满足要求，可以选择使用两级泵或者多级泵。
真空电镀的主要应用范围及真空镀膜机冷却系统的原理
真空电镀大家应该都有一定的了解，它主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点。
正是由于这些优点，所以真空电镀设备的应用非常广泛，如在ABS料、ABS+PC料、PC料，家用电器、化妆品包装等产品上都有着不错的应用。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装。
而真空电镀的做法也是相当复杂，一般是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分．另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况．喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现。
