高纯气体纯度：特种气体要求超纯、超净。纯度每提升一个 N 以及粒子、金属杂质含量浓度每降低一个数量级都将带来工艺复杂度和难度的显著提升。例如，安徽高纯气体，12 吋、90nm 制程的集成电路制造技术要求电子特气的纯度要在 5N~6N 以上，**的气体杂质浓度需要控制在 ppb（10-9）；在更为**的28nm 及目前国际一线的 6nm~10nm 集成电路制程工艺中，电子特气的纯度要求更高，杂质浓度要求甚至达到 ppt（10-12）级别。
高纯氯化1氢气体更有利于制备高纯盐1酸，氯化1氢气体溶于高纯水或者说用高纯水吸收氯化1氢就成了高纯盐1酸，这个吸收过程本质上是氯化1氢分子越过气液两相界面向水中扩散的过程。氯化1氢气体纯度的影响：要使氯化1氢气体中某一组分与溶剂接触面而被吸收，高纯气体公司，则该组分的气体分压必须高于溶液上部该组分的平衡分压。气体分压是气体组成（即气体纯度）和气体总压力的函数，平衡压则是液体组成和温度的函数。
高纯气体定要符合两个条件
1、主体成分含量定压大于某特定值。
2、各杂质组分含量定要小于某特定值。
电子工业用气、仪器仪表校准用的零点气、标准气配制用气、色谱载气等均需符合以上要求， 可列为高纯气体。
高纯气体的纯度= 主体成分含量= 1-∑ 杂质含量。实际上， 用实验的方法直接准确测定高纯气体中主体成分含量是很困难的。既使象二氧化碳这类产品，实验室高纯气体， 可以通过规定的方法， 直接测定得到“纯度值”， 但该值也包含有水分、酸性气体及其它与强碱作用的成分。所以说， 该“纯度”也并非理论意义上的气体纯度。
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