磁控溅射镀膜机-创世威纳科技公司

真空磁控溅射镀膜

所谓溅射就是用荷能粒子（通常用惰性气体的正离子）去轰击固体（以下称靶材）表面，从而引起靶材表面上的原子（或分子）从其中逸出的一种现象。这一现象是格洛夫（Grove）于1842年在实验研究阴极腐蚀问题时，磁控溅射镀膜机，阴极材料被迁移到真空管壁上而发现的。

如需了解更多磁控溅射镀膜机的相关内容，欢迎拨打图片上的**电话！

磁控溅射

磁控溅射是物理的气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年**展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

以上内容由创世威纳为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！

磁控溅射镀膜设备的主要用途

以下内容由创世威纳为您提供服务，希望对同行业的朋友有所帮助。

1.各种各样多功能性的塑料薄膜镀一层薄薄的膜。所镀的膜通常可以消化吸收、散射、反射面、折射角、偏光等实际效果。 

2.服装装饰设计应用领域，例如各种各样光的反射镀一层薄薄的膜及其透明色镀一层薄薄的膜，可可用在手机壳、电脑鼠标等商品上。 

3.电子光学制造行业行业中，其是这种非快热式镀一层薄薄的膜技术性，关键运用在有机化学气候堆积上。 

4.在电子光学行业中主要用途极大，例如光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和全透明导电性夹层玻璃等层面获得运用。 

5.在机械制造业生产加工中，其表层作用膜、超硬膜这些。其**可以出示物件表层强度进而提升有机化学可靠性能，可以增加物件应用周期时间。