纯氧化镁一般是纯度非常高的氧化镁，其制备工艺一般有气相法，即将高纯度金属镁和氧反应生成晶核，然后 使颗粒继续成长，制得高纯度微粉氧化镁。含氧化镁80%(重量)以上的粗原料用无机酸(**、盐酸)以摩尔比1:2的比例进行溶解，制成无机酸的镁盐。精制除去其中杂质，MgO晶体基片，于氧气气氛下进行加压加热处理，再经水洗、脱水、干燥，于1100℃加热1小时，制得高纯度氧化镁。
氧化镁一般情况下是白色粉末，MgO晶体价格，但是氧化镁晶体，离子晶体，氧是典型的非金属，镁是典型的金属，陕西MgO晶体，所以形成的氧化镁是离子晶体。氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等，也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。由于氧化镁良好的电绝缘性和耐腐蚀性等功能特性，可以制成透明陶瓷、发光品体，催化剂等，同时它还是二种优良的薄膜生长基质材料。
在高温超导领域，氧化镁(MgO)晶体作为薄膜生长基片和半导体材料的衬底驻基片同其它材料相比(如金刚石、白蓝宝石等)具有明显的价格优势，且性能良好。主要性能参数 生长方法：弧熔法；晶体结构：立方；晶格常数：a=4.130 A；熔点（℃）：2800；纯度：99.95%；密度（g/cm3）：3.58；硬度：5.5（mohs）；热膨胀系数（/℃）：11.2x10-6；晶体解理面：<100>；光学透过：>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）；介电常数：ε= 9.65；热导率（卡／度 厘米 秒）：0.14 300°K。
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