氧化镁单晶是以高纯氧化镁为原料，在生产高纯电熔镁砂过程产出的高纯氧化镁单晶体，MgO含量在99.90%以上，体积密度大于3.5g/cm3，其应用领域包括：①高温超导器件生长基片（超导器件、CT、通讯）；②高温高的精度光学材料（航空、航天、激光制导）；③等离子显示器薄膜（平板显示器PDP、手机和电视机屏）；④高温坩埚材料（中子检测、冶金行业）；⑤高温绝缘材料、光学陶瓷；⑥半导体材料（底衬、传感器）等。
氧化镁湿法脱硫工艺（简称：镁法脱硫）与石灰-石膏法脱硫工艺类似，氧化镁晶体基片，它是以氧化镁（MgO）为原料，经熟化生成氢氧化镁（Mg(OH)2）作为脱硫剂的一种**、有效、经济的脱硫系统。在吸收塔内，氧化镁晶体单晶，吸收浆液与烟气接触混合，烟气中的SO2与浆液中的氢氧化镁进行化学反应从而被脱除，北京氧化镁晶体，反应产物为亚**镁和**镁混合物。
氧化镁(Mg0)是一种重要的金属氧化物陶瓷材料，它具有高的熔点(~2830℃)、较低的密度(358gcm3)、较高的断裂模数等性质，被广泛用作高温耐火材料，涂料等。氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等，也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
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