DLC真空镀膜设备的分类与应用
金刚石膜(DLC)真空镀膜设备是**在塑料玻璃金属等表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的专用设备，DLC真空镀膜设备镀出的膜层牢固且细密环保，我们日常生活中都离不开DLC真空镀膜设备。
金刚石膜(DLC)真空镀膜设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。
经至成真空科技技术人员多年专注研发，通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统，使镀膜层附着有力致密、从复度一致性好等特点；
解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC等。
DLC镀膜设备技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。DLC镀膜设备技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
DLC镀膜设备是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，蒸发DLC镀膜设备而在其中配装蒸发装置和磁控装置，蒸发DLC镀膜设备可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。
金刚石膜(DLC)真空镀膜设备应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。
PVD真空镀膜机镀膜工艺原理
PVD即物**相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。PVD真空镀膜机镀膜工艺原理分为以下三种情况：
（1）真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
（2）溅射镀膜基本原理：充Ar（Ar）气的真空条件下，使Ar气进行辉光放电，这时Ar（Ar）原子电离成Ar离子（Ar），Ar离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
（3）离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
PVD真空镀膜设备蒸发系统工作方式
PVD真空镀膜设备蒸发系统主要指成膜装置部分，PVD镀膜机的成膜装置很多的，PVD镀膜有电阻加热、射频溅射、离子镀等多种方式。PVD镀膜电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多的，PVD镀膜广泛的蒸发方式，PVD镀膜也是应用时间长的蒸发方式。
下面介绍PVD镀膜电阻加热和电子枪蒸发的方式：
PVD镀膜将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，再热传导给PVD镀膜材料，当钨舟的热量高于PVD镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了，PVD镀膜由于操作方便，结构简单，成本低廉。PVD镀膜电子枪蒸发是到目前为止应用多的一种蒸发方式，PVD镀膜可以蒸发任何一种PVD镀膜料。
将镀膜材料放在坩埚里面，PVD镀膜将蒸发源制作成灯丝形状，PVD镀膜由于灯丝的材料是钨，形成了一股电子束，PVD镀膜由于电子束温度非常高，PVD镀膜可以熔化任何镀膜**凝结下来。
至成真空十多年来**从事各种真空镀膜应用设备制造，多年来致力于研发和生产真空镀膜机，以新技术不断制造出满足市场需要的真空电镀设备，为客户提供定制化的工艺解决方案和机器。