真空镀膜系统的制作方法
在现有的真空镀膜机中，安装在镀膜腔体中的加热装置多种多样，现有的用于真空镀膜的加热装置大多有加热效率不高，无法减轻操作负担、以及提高作业效率，受热不均等问题。
提供一种真空镀膜系统，本系统由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。
真空镀膜系统优点：蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了、大面积有机光电器件和电路的制备。
真空镀膜设备背压检漏法
背压检漏法是一种充压检漏与真空检漏相结合的方法，真空镀膜设备中多用于封离后的电子器件、半导体器件等密封件的无损检漏技术中。
其检漏过程基本上可分为充压、净化和检漏三个步骤。
(1)充压过程是将被检件在充有高压示漏气体的容器内存放一定时间，如被检件有漏孔，示漏气体就可以通过漏孔进入被检件的内部，并且将随浸泡时间的增加和充气压力的升高，被检件内部示漏气体的分压力也必然会逐渐升高。
(2)净化过程是采用干燥氮气流或干燥空气流在充压容器外部或在其内部喷吹被检件。
如不具备气源时也可使被检件静置，以便去除吸附在被检件外表面上的示漏气体。
在净化过程中，因为有一部分气体必然会从被检件内部经漏孔流失，从而导致被检件内部示漏气体的分压力逐渐下降，而且净化时间越长，示漏气体的分压降就越大。
(3)检漏过程则是将净化后的被检件放入真空室内，将检漏仪与真空室相连接后进行检漏。
抽真空后由于压差作用，示漏气体即可通过漏孔从被检件内部流出，然后再经过真空室进入检漏仪，按检漏仪的输出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。
真空镀膜设备的正常工作条件
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。
那么，真空镀膜设备的正常工作条件有哪些？我们一起来看看吧：
1、环境温度：10~30℃
2、相对湿度：不大于70%
3、冷却水进水温度：不高于25℃
4、冷却水质：城市自来水或质量相当的水
5、供电电压：380V，三相50Hz或220V，单相50Hz（由所用电器需要而定），电压波动范围342~399V或198V~231V，频率波动范围49~51Hz；
6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。
7、设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。
此外，真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生。而且地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染，可采用在泵的排气口上面装设排气管道（金属、橡胶管）的办法，将气体排出室外。
