光学镀膜材料真空应用领域
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。
AF防**真空镀膜机镀膜技术
AF英文全名Anti-fingerprint，中文为抗**，AF防**真空镀膜机适用于手机。平板电脑，车载显示器等触控产品外，也适用于在其他数码产品，电器，卫浴等塑料和金属件的装饰和功能薄膜上加镀AF、AS涂层，提高光滑镀、易清洁性。AF防**真空镀膜机的性能是提高AF（防**或成AS防污染）真空膜层的性能，并通过提高设备产率和稳定性、降低材料消耗来大幅降低成本。
它的原理：AF防污防**玻璃是根据荷叶原理，在玻璃外表面涂制一层纳米化学材料，将玻璃表面张力降至较低，灰尘与玻璃表面接触面积减少90%，使其具有较强的疏水、抗油污、抗**能力；使视屏玻璃面板长期保持着光洁亮丽的效果。
AR+AF溅射镀膜机有哪些特点
专门为层数不多但要求产能大、的光学薄膜产品镀膜生产而设计，适用于玻璃和塑胶光学镜片、眼镜片AF、AS膜的镀膜生产，也适用于手机视窗(玻璃或塑胶)、塑胶片材彩色光学膜的制备。旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高。可客制化的基板工件架结构定制，给客户产品摆放达到利用空间。率真空泵组配比与精密的腔体结构使我司抽气效率达到行业水平。至成专利RF离子源具有工作范围广能量均衡，高离化率，超稳定工作效率，低耗能等特点。可生产高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。低温成膜，可应对各种用途。可依靠负载锁定装置保持稳定的成膜品质。利用自动溅射控制装置，使溅射工艺实现了自动化。可选“校正板外部调节机构”。