冲压件真空镀膜设备
工具经冲压件真空镀膜设备硬质涂层处理后，其性能更稳定，可出稳定、高质量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半径受到磨损，显著延长工具的使用寿命；使用寿命的延长和行程率的提高在提高生产率的同时降低了单位成本；底层坚硬而顶层摩擦低的涂层系统，降低了粘附磨损，从而可能减少对环境产生不良影响的润滑剂的用量，甚至完全不使用润滑剂；因为涂层减少了工具负荷并因而降低了*损风险，生产可靠性得以提高，对于金属薄板成型工具，涂层可用作磨损指示器，磨损和冷焊的减少改进了工件的表面质量，也使工件能够满足对其外观的更高要求，光洁度也与随后的电镀工艺更加相匹配。
真空镀室的真空密封和室内运动部件的设计和用材，充分考虑可承受高温，配置多只园形电弧蒸发源，或配多个矩形平面电弧蒸发源，也可配多只空心阴极枪，同时配置耐冲击的、具有优异灭闪弧性能的偏压电源，保证足够等离子体密度和反应活性，提高膜层致密性和结合力。工件可三维运动，提高膜层均匀性。全自动控制提高工艺稳定性。
真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物**相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物**相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物**相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物**相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物**相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物**相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
全自动真空镀膜机
适应于玻璃、塑胶等基片上镀制各类光学薄膜和其它机能性装饰薄膜的批量化生产
采用**的电气控制系统，良好的用户操作界面，大大减轻作业人员的负担
RCS自动镀膜控制系统保证整个镀膜过程自动完成
基片架转动采用磁流体密封技术保证真空密封，中心驱动方式保证薄膜产品的均匀性及重复性
优化的配置、严格的品质控制保证产品质量的稳定性和重复性
排气速率.镀膜效率的提高，大大缩短了产品生产周期
