镀膜设备的镀膜方式及特点
镀膜设备就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽的设备。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。
镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀，镀膜设备的特点：成膜速度快0.1-50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。
镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:
1、镀膜材料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。
2、材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。
3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。
4、镀膜过程中,电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。
详解手机行业的PVD镀膜技术PVD是英文PhysicalVaporDeition的缩写，中文意思是“物**相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD(物**相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是快的，它已经成为当今**的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。PVD镀膜(离子镀膜)技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
