注塑成型真空镀膜机
注塑成型机器的滑移件（例如，喷射器、推进器或螺纹芯）可通过注塑成型真空镀膜机制备的硬质涂层有效地防止磨损和刮伤。如果不允许成品接触有污染的润滑剂和脱模剂，则必须采用涂层，硬质涂层具有抗粘的特性，可降低熔料对蜗杆梢、逆流阀、喷嘴和关闭针的粘附力。当注塑盖和塞用于包装时，不可能使用任何润滑剂或脱模剂，硬质涂层处理后的螺纹芯可将30-型腔工具的使用周期从1周增加到8个月以上，可靠的脱模和10%的周期缩短时间，可提高20%的生产率。
多功能真空镀膜机的组成
多功能真空镀膜机，发明结构简单，操作方便，功能齐全，能够保持真空室内无尘环境，而且能够对镀膜机内部快速降温，提高工作效率，设置有密封圈可以防止气体的泄漏。多功能真空镀膜机包括真空镀膜机本体、控制面板、迅速降温装置、补充气体管、补充气体箱、抽气管、抽气箱、扩散泵、罗茨泵、机器泵、抽气除尘器、抽气空气泵、补充气体除尘器、补充气体空气泵，迅速降温装置包括框体、水槽、入水塞、海绵金属网、散热风扇、进风口，控制面板设置于真空镀膜机本体的左侧，迅速降温装置设置于真空镀膜机本体的右侧，补充气体箱通过补充气体管与真空镀膜机本体内部连通，抽气箱通过抽气管与真空镀膜机本体连接，机器泵与抽气管连接，罗茨泵与机器泵连接，抽气除尘器的一端与抽气管连接，另一端与抽气空气泵连接，抽气除尘器和抽气空气泵都设置于抽气箱内，补充气体除尘器和补充气体空气泵都设置于补充气体箱内，补充气体除尘器通过补充气体管与真空镀膜机本体内部连通，补充气体空气泵与补充气体除尘器连接，水槽设置于框体的底部，入水塞设置于水槽上，海绵金属网的顶端与框体顶端连接，底端与水槽底端连接，散热风扇设置于海绵金属网的后方，进风口设置于框体的左右两侧。
真空镀膜机溅射工艺
真空镀膜机溅射工艺主要用于真空镀膜机溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受Ar离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。真空镀膜机溅射刻蚀时，应尽可能从真空镀膜机溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时，溅射源置于靶极，受Ar离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜；若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。在溅射中，溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的，其能量较高，往往比蒸发原子高出1～2个数量级，因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发为佳。
若在溅射时衬底加适当的偏压，可以兼顾衬底的清洁处理，这对生成薄膜的台阶覆盖也有好处。另外，用真空镀膜机溅射法可以制备不能用蒸发工艺制备的高熔点、低蒸气压物质膜，便于制备化合物或合金的薄膜。溅射主要有离子束溅射和等离子体溅射两种方法。离子束溅射装置中，由离子枪提供一定能量的定向离子束轰击靶极产生溅射。离子枪可以兼作衬底的清洁处理和对靶极的溅射。为避免在绝缘的固体表面产生电荷堆积，可采用荷能中性束的溅射。中性束是荷能正离子在脱离离子枪之前由电子中和所致。离子束溅射广泛应用于表面分析仪器中，对样品进行清洁处理或剥层处理。由于束斑大小有限，用于大面积衬底的快速薄膜淀积尚有困难。等离子体真空镀膜机溅射也称辉光放电溅射。产生溅射所需的正离子来源于辉光放电中的等离子区。靶极表面必须是一个高的负电位，正离子被此电场加速后获得动能轰击靶极产生溅射，同时不可避免地发生电子对衬底的轰击。
