





湖北丰热科技有限公司(原武汉离子热处理研究所),**制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业;是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉,并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
两种靶电源不同之处:选用(工艺型)双极矩形波或正弦波中频靶电源,因其输出的电压和电流的占空比可以大范围连续调节,镀膜时电源的工艺参数适应范围比“经济型”中频靶电源要宽很多;适用于需要经常变化的磁控溅射镀膜工艺和不同材质的膜层。?(经济型)双极性矩形波或正弦波中频靶电源的输出电压或电流的工艺调节范围偏窄,若相关参数选配合适,一般可用于磁控溅射镀膜工艺相对固定和单一的工业生产中,其优点是靶电源价格可以相对便宜。??
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双极性脉冲中频靶电源一般带孪生靶或双靶运行。两个靶的工作电压极性相反同时又不断互换极性,离子氮化炉,电压极性为负时的磁控靶发生溅射,极性为正时的那个磁控靶不产生溅射。??由于阴阳极间电场正负极性来回变化,使电子路径延长,与工作气体碰撞次数增加,故单个磁控靶承载同样功率(其它真空环境条件相同)时,选用双极脉冲中频靶电源比用纯直流靶电源和脉冲直流中频靶电源时,工作气体的离化几率和靶材的沉积速率均要高一些。??磁控靶阴极电压极性为负时,其单脉冲气体放电应与直流气体放电伏-安特性曲线异常辉光放电段及之前段的变化规律(趋势)相符。??
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在阴极附近,二次电子发射产生的电子在较短距离内尚未得到足够的能使气体分子电离或激发的动能,所以紧接阴极的区域不发光。而在阴极辉区,电子已获得足够的能量碰撞气体分子,使之电离或激发发光。其余暗区和辉区的形成也主要取决于电子到达该区的动能以及气体的压强(电子与气体分子的非弹性碰撞会失去动能)。
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