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4）抛光的技术

由于抛光主要是靠人工完成，所以人的技能目前还是影响抛光质量的主要原因。

一般认为抛光技术影响表面粗糙度，不锈钢异形抛光机，其实好的抛光技术还要配合的钢材以及正确的热处理工艺，才能得到满意的抛光效果；反之，抛光技术不好，就算钢材再好也做不到镜面效果。

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不同类型抛光应注意的事项

（1）模具砂纸打磨和油石研磨应注意的事项

1）对于硬度较高的模具表面只能用清洁和软的油石打磨工具。

2）在打磨中转换砂号级别时，工件和操作者的双手必须清洗干净，避免将粗砂粒带到下一级较细的打磨操作中。

3）在进行每一道打磨工序时，砂纸应从不同的45°方向去打磨，直至消除上一级的砂纹，异形抛光机，当上一级的砂纹清除后，必须再延长25%的打磨时间，广东异形抛光机，然后才可转换下一道更细的砂号。

4）打磨时变换不同的方向可避免工件产生波浪等高低不平。

（3）热处理工艺

如果热处理不当，钢材表面硬度不均或特性上有差异，会给抛光造成困难。

CMP，即Chemical

Mechanical Polishing，化学机械抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。

CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术初是用于获取高质量的玻璃表面，如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM

的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的"软磨硬"原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

三、抛光工序工艺流程

工艺流程选用

1、考虑抛光后的品质对电镀的影响；

2、考虑抛光材料的成本；

3、考虑抛光的效率。

品质与成本的平衡

抛光作业：

?  区分外构面A、B、C面不同的要求；

?  区分不同产品的特殊要求

?  抛光过程需要注意抛光蜡对电镀的影响；

?  抛光时作业员对产品进行自检；

?  质检员对移转前产品进行全检。

影响抛光品质的因素：

?  拋光工序的选用

?  拋光耗材的选用

?  拋光产品的底材

?  拋光员工的技能

?  检验人员对标准的把握