掩膜(MASK)就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版,在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是:程序流程靠谱、低成本。缺陷:大批量规定大,每一次改动程序流程就必须再次做光呆板,不一样程序流程不可以一起生产制造,交货期长。
选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分),以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中,掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中,掩模是二维矩阵阵列,有时也使用多值图像。






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使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀,将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀,形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。
在有必要的情况下,使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层,并对掩膜版进行清洗。

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掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金属铬薄膜,制版价格,通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。
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