光学镀膜的作用介绍
光学镀膜由薄膜层组合制作而成，它产生干扰效应来提高光学系统内的透射率或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、个别层的厚度和不同的层接口折射率。用于精密光学的常见镀膜类型：增透膜(AR)、高反射（镜）膜、分光镜膜和过滤光片膜。增透膜包括在高折射率的光学中并用于化光通量和降低鬼影。高反射膜的设计可在单个波长或范围广泛的整个波长以反射。分光镜膜用于将入射光分为已知的透射光和反射光输出。滤光片应用于大量的工业应用中，并以特定波长用于透射、反射、吸收或衰减光。爱特蒙特光学还可以提供各种定制镀膜满足任何应用程序需要。
光学镀膜经过精心设计用于特定的入射光角和特定的偏振光，例如S偏振光、P偏振光或随机偏振光等。如果镀膜设计的入射光角为0°，但使用时的入射光角为45°，则镀膜将不会以规定的透射率/反射规格执行。同样地，镀膜一般设计用于随机偏振光，因此在设计用于随机偏振光的镀膜上使用S偏振光或P偏振光将会再次产生无效的规格。
光学镀膜是由沉积电介质和金属材料制作而成，例如薄层中的Ta2O5和/或Al2O3，在应用中使用的光波长通常是四分之一波长光学厚度(QWOT)或半波光学厚度(HWOT)。这些薄膜由高折射率和低折射率层交替而成，从而诱发需要的干扰效应。请参阅图1有关宽带增透膜设计的样品说明。
引起镀膜玻璃膜层不均匀原因有哪些
由于残余气体的存在，不但影响膜的纯度及质量，还会产生。所以在生产中要选用高纯度的气为工作气体，严格控制真空室的漏气速率，以减小残余气体对原片及膜层的污染。将残余气体的压力控制在10Pa以下，要经常清理加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境，减少扩散泵返油对玻璃的污染。同时可适当提高阴极的溅射功率，以增加粒子动能及扩散能力，这将有利于清除被镀膜玻璃表面的残留物质，减少镀膜玻璃的。镀膜玻璃膜的膜层均匀度一般地讲，同一基片上膜层厚薄不同，就称之为膜层不均匀。引起镀膜玻璃膜层不均匀的原因是多方面的。磁控溅射靶的水平磁场强度（B）对膜层均匀度的影响磁控溅射的关键参数之一是与电场垂直的水平磁场强度B，因为水平磁场强度B要求在阴极靶的表面是一个均匀的数值。而实际生产过程中值是随着使用方法及时间的推移，产生一定的变化，而出现不均匀现象。我们从溅射过的阴极靶材的刻蚀区的变化情况就可以验证。
真空镀膜机镀铝性能与哪些因素有关
真空镀膜机镀铝性能取决于塑件和镀膜层的质量，被人戏称为富人的游戏，说明镀膜质量要求相当高。镀膜质量的关键是底漆层质量。虽有无底涂镀膜，但其模具质量要求和成本高，存在真空镀膜机镀铝反射亮度不足和塑件缺陷等问题，易导致镀铝产品报废率居高不下。一般而言，无底涂的报废率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至会更高。为解决这一困惑，国内有厂家经过10多年的努力，采用了炉内喷涂底漆并固化使镀件生成高亮的表面(无污染残留物)，进行高压离子清洗预处理，真空蒸发镀铝和镀保护膜，使产品的合格率在98%以上，每年可节省大量的喷漆、烤漆能耗和人工成本等。
