离子镀膜设备的工作原理及操作方法目前商业上已有很精制的设备安装在显微镜下的载物台的位置上。溅射镀膜时，将抛光的试样安放在式样头具上，倾转到面对电子枪（阴极）的位置，调节溅射室中的气压，辉光放电，阴极溅射，反应溅射沉积。一定时间后，中断溅射，把溅射沉积的试样表面，转回到面对物镜的位置，观察试样表面的颜色，来评定沉积膜的厚度，当要求的颜色得到时，镀膜操作停止。
真空蒸发镀膜常用的两种镀膜方法
常用的两种镀膜方法 1，真空蒸发镀膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸发结晶于镜片表面的方式。离子辅助镀膜是指蒸发过程中，微粒离子化，增加均匀性和附着力和氧化程度的方法。2，溅射式镀膜，是利用高电压电离某些气体，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到达一定程度喷射出来的镀膜方式。离子溅射镀膜是指在溅射能量来源为离子，并且微粒飞翔过程中有明显离子状态，并使用磁场控制其飞翔轨迹的镀膜方式。
光学镀膜机对于单片膜色不均匀产生的原因光学镀膜机主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。另外镜片被镜圈()边缘部遮挡、镜圈()脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。改善对策：㈠ 条件许可，用行星夹具;㈡ 选用伞片平坦(R大)的机台;㈢ 根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。㈣ 如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。㈤ 改善镜圈()，防止遮挡。㈥ 注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡㈦ 清洁镜圈()㈧ 改善膜料蒸发状况。
