真空镀膜机液态电浆抛光原理
真空镀膜机此方法将待抛光工件浸入加热的电解质水溶液中，并对其施加正极性电压，该电解液无公害且廉价低浓度,所施加的电压为直流电压，工件可以是不锈钢、工具钢、低碳钢、铜、金和铝等导电材料。在适当的工作条件下，
真空镀膜机工件表面会出现稳定的蒸气气体层，该气体层会把被处理表面与电解质水溶液隔开，从而导致表面与电解液蒸气之间产生强烈的等离子体化学和电化学反应，使被处理表面产生阴极氧化，同时又使阴极氧化层受到化学侵蚀，在氧化速度与侵蚀速度相等时出现抛光效果，其表现为光洁度上升及反射率提高。当氧化层薄且又足以抵御侵蚀作用时，
真空镀膜机其反射率出现高值。微观不平处的氧化层薄，因此侵蚀总是发生在凸起部位。此外，被抛光表面被施加足够高的电压后，它和气体层、蒸气、电解液之间会产生很高的电场强度，这种强度也在微观不平处得到强化。这些作用的综合效果，使表面微观凸起部位被削平，达到抛光效果。
真空镀膜机等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。真空镀膜机等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果
真空电镀设备的主要工作流程
真空电镀设备是利用在高度真空的条件进行金属加热，使金属起到融化或者蒸发的作用，并且对金属物品中的表面形成金属薄膜的作用。虽然真空电镀设备的操作流程比较简单，但是在工作中还需要遵循一定的条件和流程：
1、温度要求：模溫在45-95摄氏度为宜(比非电镀件高20摄氏度)。
2、采用较高的注塑温度，这样可以提高镀层的附着力。
3、注塑压力宜低，注塑速度宜慢，通常应比非电镀件的成型速度慢一倍。
4、原材料应在80-90摄氏度下烘干4小时，否则残留的水分将会在成型零件表面产生气泡，流线纹而影响外观。
5、不要使用胶模剂，否则会对镀层的附着力产生很不利的影响，若脱模实在困难，也只能使用滑石粉或肥皂水作脱模剂。
真空卷绕镀膜设备的结构特征
其一,被镀基材为柔性基材,即具有可卷绕性;
其二,镀膜过程具有连续性,即在一个工作周期内镀膜是连续进行的;
其三,镀膜过程始终在高真空环境中进行。
由以上特征可知:其基本结构必须有卷绕传动,有卷材(基材)的放卷和收卷。在放卷和收卷的过程中基材被镀上薄膜。镀膜部分就是真空卷绕镀膜设备的工作部。它位于基材的收放卷之间。工作部的工作原理可以是前述的电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者其它真空镀膜方法中的任一种。
要维持工作周期内镀膜过程的连续性,就要求镀材(沉积材料)足够多。在蒸发卷绕镀中就要求有足够大的坩埚,或者有连续的送料机构;在磁控溅射中要求有足够大的靶材。要有一个真空的环境,以上装置需置于一个密封的真空容器中,并有一套真空机组,以维持工作周期内真空度的稳定性。
这样,一台典型的真空卷绕镀膜设备就初具雏形了。当然,在卷绕系统中为保证膜层的均匀性,要做到卷绕系统线速度的恒定;为保证基材的平整度和收卷不跑偏,要做到卷绕系统基材张力的恒定,并要有基材展平装置。在镀膜部分须有挡板和水冷装置,在连续送蒸镀材料的机构中,送料速度必须实现恒定并可调.
