减少真空镀膜机中灰尘的方法
如今真空镀膜机镀膜技术在生活中随处可见，但真空镀膜机在日常使用中，经常累积上一层灰尘，这影响到后期镀膜的整体效果，那么日常有哪些方法能减少真空镀膜机中的灰尘呢？由于灰尘对镀膜效果会产生比较大的影响，因此未来避免在真空镀膜设备中留下灰尘，应该在使用过程中注意以下几点来尽量避免，除此也要注意经常清洗，避免灰尘越积越多。
（1）真空镀膜机一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理；
（2）真空镀膜适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物；
（3）工作人员在操作时需要戴手套、鞋套等，要有规范的服装，以保证平时工作中的清洁；
（4）真空镀膜清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求；
（5）设备样品取出后要注意放置环境的清洁问题；
（6）设备使用的源材料要符合必要的纯度要求；
真空镀膜设备作业时的应急预案很实用1、设备工作一段时间需清理打扫设备工作一段时间，一般50到70炉次，需清理打扫，把粉尘清出炉外，然后空炉工作一次。工作的方式是先抽空为真空度高于10-2Pa时加热，加热温度一般高于正常使用温度的20℃。在高炉温时保温一个小时以上，然后自然冷却。这样使设备内部空间保持清洁。2、更换充气气瓶设备所用充气气瓶需更换时，拆掉稳压阀，换上一瓶新气，一定要注意安装时不许漏气。在换上新气瓶后，在工件没加热前，应在抽空过程中对炉内充气，以便在换气瓶过程中造成的管路内存有的大气抽出，使充气管路保持清洁。
光学镀膜材料真空应用领域
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。
