光学镀膜的作用介绍
光学镀膜由薄膜层组合制作而成，它产生干扰效应来提高光学系统内的透射率或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、个别层的厚度和不同的层接口折射率。用于精密光学的常见镀膜类型：增透膜(AR)、高反射（镜）膜、分光镜膜和过滤光片膜。增透膜包括在高折射率的光学中并用于化光通量和降低鬼影。高反射膜的设计可在单个波长或范围广泛的整个波长以反射。分光镜膜用于将入射光分为已知的透射光和反射光输出。滤光片应用于大量的工业应用中，并以特定波长用于透射、反射、吸收或衰减光。爱特蒙特光学还可以提供各种定制镀膜满足任何应用程序需要。
光学镀膜经过精心设计用于特定的入射光角和特定的偏振光，例如S偏振光、P偏振光或随机偏振光等。如果镀膜设计的入射光角为0°，但使用时的入射光角为45°，则镀膜将不会以规定的透射率/反射规格执行。同样地，镀膜一般设计用于随机偏振光，因此在设计用于随机偏振光的镀膜上使用S偏振光或P偏振光将会再次产生无效的规格。
光学镀膜是由沉积电介质和金属材料制作而成，例如薄层中的Ta2O5和/或Al2O3，在应用中使用的光波长通常是四分之一波长光学厚度(QWOT)或半波光学厚度(HWOT)。这些薄膜由高折射率和低折射率层交替而成，从而诱发需要的干扰效应。请参阅图1有关宽带增透膜设计的样品说明。
真空镀膜机镀膜层厚度范围
真空镀膜机镀膜层厚度范围真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室分为上室，左下室和右下室。蒸镀时，两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等。
光学镀膜机的镀膜工艺原理
光学镀膜工艺，已经普及到各行各业，光学薄膜在我们的生活中无处不在，更是被大众高度认可，据统计目前光学镀膜机材料常用品种已达60余种，而且其品种、应用功能还在不断被开发。光学镀膜工艺直接影响这大家的生活习惯，已是人们生活中不可或缺的一部分。
从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用广泛，和生活息息相关，比喻平时戴的眼镜、各式家电用品，数码相机，或者是上的防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工，干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。