严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
真空镀中对底涂层的要求：
①对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。③成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。④与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。真空镀对面涂层的要求：①与镀膜层要有良好的接触性能;②与底涂层要有一定的相溶性;③成膜性能与施涂性能优良;具有适当的机械强度;④防潮、抗溶剂、耐腐蚀性能好。抗老化性能强。由于产品的特殊需要，在面涂层上还可进一步施涂超硬涂层或彩色涂层等。
镀膜机工艺在装饰品方面的运用
镀膜机工艺在装饰品方面的运用跟着经济的开展和生活水平的进步，大家喜爱将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室表里装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五光十色。
镀膜技能在飞机防护涂层方面的运用飞机的钛合金紧固件，原来选用电镀办法镀镉。但在镀镉中含有氢，所以在飞翔进程中，遭到大气、海水的腐蚀，镀层上简单发生"镉脆"，甚至导致"空难"。1964年，选用离子镀办法在钛合金紧固件上镀铝，处理了飞机零件的"镉脆"疑问。在离子镀技能中，因为给工件施加负偏压，能够构成"伪分散层"、细化膜层安排，因而能够显著进步膜层的耐腐蚀功能。
镀膜机工艺在防伪技能中的运用防伪膜品种许多，从运用办法可分为反射式和透射式；从膜系附着办法能够分为直接镀膜式、直接镀膜式或直接镀膜剪贴式。
镀膜机工艺在平板显现器中的运用一切各类平板显现器都要用到各品种型的薄膜，并且简直一切类型的平板显现器材都需求运用ITO膜，以满意通明电器的请求。能够毫不夸张的说：没有薄膜技能就没有平板显现器材。