





显示市场有高达100亿美元以上的市场。平板显示工艺用电子束蒸发将钼沉积在发射极上,其用量虽少,但对发展大屏幕、高清晰度电视却有着不可的前程。 [1] 制备方法中的问题程序升温的“局部规整反应”是合成高比表面积氮化钼和碳化钼的有效方法,利用这种方法成功地合成了粉末状催化剂和担载型催化剂。但是合成温度要求比较高,碳化钼的价格,大规模合成催化剂过程中的传质、传热问题仍然需要探索。

以二硅化钼作基体的复合材料Mo-Si-B的高强度和能力很好,但延性差,生产小批量商用产品。为解决延性问题,确定了这种钼—硅—硼系复合材料的组成范围,使之除性能奇佳外,高机械性能与TZM合金相当。该复合材以Mo5SiB(T2)为基体相,以金属钼为第二相。金属相提高了复合材料的延性,基体相可形成自愈性的氧化皮。

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