真空离子镀膜设备的操作步骤是什么
在操作真空离子镀膜设备时，请参阅设备规格、仪表板指针显示和每个旋钮下的标记说明：检查真空离子镀膜设备操作控制开关处于“关闭”位置。打开主电源开关为设备供电。按“复位”和钮复位整台机器的控制电源。
启动水冷却系统，连接真空离子镀膜设备的冷却水。操作台上的控制方式选择开关是以“自动齿轮”保持泵VP1和VP2启动，助推器泵BP和扩压泵DP启动预热，时间约60分钟。将全缠绕铝线送丝盘放入轴销，然后安装在支撑板上。
铝线通过送丝轮和管道通到蒸发船的顶部，调整弹簧的张力，使压轮不打滑地压紧铝丝，使铝线顺利运输。用石墨纸包裹蒸发舟的两端，然后将其压入电极。关闭蒸发罐挡板。基材卷筒安装在卸料轴上，空卷筒安装在收集器轴上，然后放卷座和卷轴座分别固定。调整基材和筒芯的位置，并将筒芯泵紧。
在触摸屏主控制屏上设置真空离子镀膜设备的卷绕参数，包括直径、宽度、张力、停止直径、卷绕速度、卷绕张力等。根据卷绕流程图，从放电轴绘制基片，并将其缠绕到采集轴，并在操作过程中对薄膜进行紧固和对齐。按下操作台上的“收卷”按钮，收卷系统按设定值进入零速张力保持状态，收卷系统将收卷物料。
中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术介绍
很多人不知道，磁控溅射真空镀膜机镀膜技术也分类型的，镀的产品不一样，使用的磁控溅射技术也是有差别，今天至成真空小编为大将讲解一下中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术，希望能帮到大家。
中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术分靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入Ar气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。
真空电弧离子镀膜技术
真空电弧离子镀膜技术不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜；可以镀金属膜，氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬及镍、铬、铜等化合物膜、多层超硬膜、多元化合物膜，还可以镀氮化钛掺金膜等。电弧离子镀膜广泛应用于工具、模具的超硬涂层，汽车轮毂、高尔夫球具、钟表、酒店用品、卫浴洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品、陶瓷和玻璃等的装饰涂层等领域。真空镀膜机镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景，特别是在制造大规模集成电路的电学膜；在数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜；在能充分展示和应用各种光学特性的光学膜；在计算机显示用的感光膜；在TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜；在建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜；在包装领域用防护膜、阻隔膜；在装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜；在工、模具上应用的耐磨超硬膜：在纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等等都是真空镀膜技术及设备在广泛应的基础上得到的不断发展的领域。
