光学镀膜材料真空应用领域
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。
常用的光学镀膜有哪些？
虽然薄膜的光学现象早在17世纪就为人们所注意，但是把光学薄膜作为一个课题进行专门研究却开始于20世纪30年代以后，这主要因为真空技术的发展给各种光学薄膜的制备提供了先决条件。发展到今日，光学薄膜已得到很大发展，光学薄膜的生产已逐步走向系列化、程序化和化，但是，在光学薄膜的研究中还有不少问题有待进一步解决，光学薄膜现有的水平在不少工作中还不能满足要求，需要提高。在理论上，不但薄膜的生长机理需要搞清光学薄膜，而且薄膜的光学理论，特别是应用于极短波段的光学理论也有待进一步完善和改进。在工艺上，人们还缺乏有效的手段实现对薄膜淀积参量的控制，这样，薄膜的生长就具有一定程度的随机性，薄膜的光学常数、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不稳定性和盲目性，这一切都限制了光学薄膜质量的提高。所以，光学薄膜发展至今也可以说是一个飞跃性的进步了，今天首先赓旭光电小编和大家一起来认识一下生活当中常见的几种光学薄膜。
一，减反射膜：又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。
简单的增透膜是单层膜，它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低的薄膜。当薄膜的折射率低于基体材料的折射率时,两个界面的反射系数r1和r2具有相同的
光学薄膜：位相变化。如果膜层的光学厚度是某一波长的四分之一，相邻两束光的光程差恰好为π,即振动方向相反，叠加的结果使光学表面对该波长的反射光减少。适当选择膜层的折射率，使得r1和r2相等，这时光学表面的反射光可以完全消除。
一般情况下，采用单层增透膜很难达到理想的增透效果,为了在单波长实现零反射,或在较宽的光谱区达到好的增透效果，往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。图1的a、b、c分别绘出Kg玻璃表面的单层、双层和三层增透膜的剩余反射曲线。
多功能镀膜设备及镀膜方法与流程
现在，真空镀膜机是用于外表处理PVD膜层的设备，包含真空磁控溅射镀膜机、真空蒸腾镀膜机、真空多弧离子镀膜机等，真空磁控溅射镀膜机可在低温状态下进行非金属资料进行镀膜，真空蒸腾镀膜机和真空多弧离子镀膜机归于高温镀膜，适用于金属资料镀膜。
每种镀膜机都有各自特色和使用范围约束，如需镀制多种不同膜层以及进行金属和非金属资料的镀膜，需求置办上述多种真空镀膜机，存在设备出资大的缺陷。
为了处理上述问题，供给一种多功能镀膜设备及镀膜办法。手套箱蒸镀一体机，本体系由真空镀膜体系和手套箱体系集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体空气下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。首要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等试验研讨与使用。
蒸腾镀膜与手套箱组合，完成蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造，使整个薄膜成长和器材制备进程高度集成在一个完好的可控环境空气的体系中，消除有机大面积电路制备进程中大气环境中不稳定要素影响，保证了、大面积有机光电器材和电路的制备。
