pvd装饰镀膜有哪些优点？PVD镀膜(离子镀膜)技术的主要特点和优势—和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较，PVD离子镀膜具有如下优点：A.膜层与工件表面的结合力强，更加持久和耐磨B.离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件0v+R0S4C.膜层沉积速率快，生产D.可镀膜层种类广泛E.膜层性能稳定、安全性高(获得FDA认证).镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?一、产品表面洁净度不够，离子源清洗气放大时间长点。二、清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。三、工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。
真空镀膜设备维护和***方法：
（1）真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，应清洁工作室一次。
方法是：用（NaOH）饱和溶液反复擦洗真空室内壁，（注意***皮肤不可以直接接触溶液，以免灼伤）目的是使镀上去的膜料铝（AL）与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾清洗精抽阀内的污垢。
（2）当粗抽泵（滑阀泵，旋片泵）连续工作一个月（雨季减半），需更换新油。
方法是：拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量（油视镜观察）。连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。
蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?
电镀设备真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
为了提高镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能良好，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。
