真空镀膜机镀膜层厚度范围真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室分为上室，左下室和右下室。蒸镀时，两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等。
引起镀膜玻璃膜层不均匀原因多方面
二次污染造成的洗净的玻璃在镀膜前需经过加热，抽真空和溅射等过程，而使玻璃再次污染，从而使玻璃镀膜后产生。玻璃加热过程中再污染是加热室或溅射室不干净，而对玻璃再污染，这些污染源主要来源于扩散泵返油、加热室或溅射室内脏、靶玻璃材溅射产生靶灰，残余气体压强高等诸多方面。因为一般的固体物质，每单位表面积上的分子数大约为10个左右，在常Pa的压强下，每秒钟撞表面的分子数大体上相当于覆盖物质积的分子数。在残余气体压强为10的情况下，假如以每秒一层原子左右的形成速度进行镀膜时，则蒸发的原子和残余气体的分子几乎是以相同的几率碰撞基片。在溅射过程中在充入气时压强为10～10时所形成膜的速度和蒸发条件下基本相同。
磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。通常在健身过程中，经过加速的入射离子轰击靶材阴极表面的时候，会产生电子发射，而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区，和中性气体原子进行碰撞，产生的自持的辉光放电所需离子。电子在平均只有程随着电子能量的增大而增大，随着气压的增大而减小，特别是在远离阴极的地方产生，它们的热壁损失也是非常大的，这主要是因为其离化效率低。因此可以加上一平行阴极表面的磁场就能够将初始电子限制在阴极范围内，能够有效的增加气体原子的梨花效率，从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。
