真空镀膜机光学厚度的监测精度的提高，由于许多因素，但根本的原因是光学厚度的监测。optimalswa-i-05单一波长的光学监测系统，是间接控制，镀膜机***的光学监测软件结合王博士的发展，有效地改善和灵敏度变化的光反应的膜厚度的减少的误差的理论方法，提供监测波长的反馈或传输模式的选择和广泛的。特别适用于涂布各种薄膜厚度监控包括不规则的膜。
磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高?
磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。通常在健身过程中，经过加速的入射离子轰击靶材阴极表面的时候，会产生电子发射，而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区，和中性气体原子进行碰撞，产生的自持的辉光放电所需离子。电子在平均只有程随着电子能量的增大而增大，随着气压的增大而减小，特别是在远离阴极的地方产生，它们的热壁损失也是非常大的，这主要是因为其离化效率低。因此可以加上一平行阴极表面的磁场就能够将初始电子限制在阴极范围内，能够有效的增加气体原子的梨花效率，从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。
电子束蒸发的优点在于：
电子束的光斑可以随意调整，可以一多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子（原子）有足够的能量从靶材表面逸出，在产品表面凝聚形成薄膜。用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子一样节约资源。目前运用多的有磁控溅射，磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场，将电子约束在阴极靶材表面附近，提高电离效率。它是操作简单的一种，所以运用非常广。
