真空镀膜设备中频磁控溅射知识源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。
真空镀膜设备镀铝纸的优势
真空镀膜设备真空镀铝纸的优势真空镀铝纸之所以称之为绿色材料，是因为它采用了真空蒸镀的方法，真空镀膜机镀铝层相对较薄，节省铝材，且易于回收和降解。铝箔复合纸的压延铝箔层厚度一般为6-7μm，既不能作为铝制品回收，也无法作为纸类回收，是非环保型纸张；真空镀膜设备PET复合膜纸是镀铝膜和纸张的复合产品，由于塑料膜在自然环境中是不能降解的，它也是一种非环保型纸张；而真空镀膜机真空镀铝纸的镀铝层厚度仅为0.02-0.04μm，当作为回收物时，真空镀膜设备镀铝层在碱性溶液中能够很快地被溶解、分离，而铝箔复合纸则需要很长时间才能溶解；当作为废弃物时，在自然环境中真空镀膜机真空镀铝纸比复合铝箔纸更容易被土壤中的微生物降解，且降解产物容易被土壤吸收。另外，生产真空镀铝纸所用的原辅材料无气味、***，符合美国FDA标准。
真空镀膜设备检漏环节,你都会了吗?
新人来公司报道，前期都要进行严格的真空镀膜设备捡漏培训，后期还要经过公司传帮带的方式来帮助新人快速成长，为什么公司对捡漏培训如此重视和严格，下面小编为大家讲解真空镀膜设备捡漏的重要性：真空镀膜设备检漏是保证真空镀膜设备真空度的一项检查措施，简称检漏，真空度的高低是直接影响到镀膜效果的，如果捡漏有纰漏，必然会造成或大或小的损失，由此得不偿失，所以机器在运作过程中检漏环节是的。经验丰富的技术人员都知道，捡漏产生的原因一般都是真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或部件之前的连接位细缝中产生，当抽气系统抽气后使真空室内压强下降，外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内，造成真空度下降。
