化学清洗在各行业中的应用
对象的表面具有污染层或覆盖层,并且对象的原始表面状态已更改。***原始状态是清除物体表面的污垢。去除方法包括物理方法和化学方法。两种方法之间的区别在于是否更改污垢组成分子。化学清洗也使用较多,在各个行业有什么应用?
在电力工业中,化学方法用于清洁电力排灰管道,输灰管道,电厂冷凝器和其他设备。电力行业中使用的设备包括油冷却器,回油管,除氧器等。这些设备在使用过程中会由于物理或化学作用而形成污垢。很难通过物理方法去除所有污垢。化学方法可获得更好的结果。石油化工行业的冷却水系统水垢清洗,热交换器清洗,锅炉清洗和反应堆清洗也可以使用化学方法。纺织和化纤行业中的***空调清洁,冷却线清洁和储气罐清洁只能使用清洁剂进行清洁。这是使用化学清洁方法。与物理清洁相比,它可以清除污垢,并***表面的原始状态。
EDTA二钠盐清洗工艺 用核算用量的去离子水制造EDTA二钠盐溶液
用NaOH调度pH至5.2左右,加热到90℃以上送入锅炉,熄灭加热锅炉,使清洗液温度达135~140℃,每15~20min取样,剖析EDTA、Fe2’、Fe3’离子浓度及pH值。普通经4~5h清洗,清洗液pH值可达8~8.5。此刻,Fe3’离子浓度不再升高,即可以为清洗完毕,而且金属外表已进入钝态。放出的清洗液中的EDTA能够收回。 EDTA二钠盐合适于铲除高含量的铁的氧化物垢。假定垢中铁的氧化物含量低于65%,则不如改用其他清洗办法作用更好。假定垢中二氧化硅的含量逾越5%,它的清洗作用会显着降落。若垢中铜含量高于5%,南昌清洗,则应在清洗氧化铁之后,加1%~1.5%的氯水和O.2%的过***铵除铜,或用ACR法除铜。
4.3盐酸与的混酸清洗
当水垢中含有碳酸钙垢、铁垢及二氧化硅时,不能总用清洗,由于会发作难溶的氟化钙而影响清洗。当水垢中二氧化硅的含量很小时,可单独用盐酸铲除上述污垢。但当二氧化硅含量大于10%时,单独用盐酸清洗就难以收效,此刻可运用盐酸和的混酸来去除含硅的水垢。在运用盐酸和的混酸清洗时,普通控制总酸浓度在10%左右,供热设备清洗, HCI:HF=8:2,在30~40℃下清洗。普通,当Si02含量在10%左右,HF的浓度为1%;Si02含量在15%时,HF的浓度应为2%;当Si02含量大于20%时,HF的浓度应为3%。酸洗时添加缓蚀剂,酸洗后要停止水冲刷和钝化。
化学清洗浅谈传统串油和化学清洗管路工艺
1 化学清洗的具体步骤
在系统安装完毕,正确性、完整性及密性检验合格,按图2对系统改装完成后,可进行化学管路清洗,具体步骤如下:
(1) 对分离的各单元部件敞口均要进行有效封堵,GGH清洗,以防赃物、***等进入单元部件内部。
(2) 将中性除锈剂SN-100与淡水按一定比例配置好,然后临时通过注水柜将其加注到清洗管系系统内,加注期间应对管路进行适当放气,多晶硅设备清洗,以使化学溶液完全充满整个管系。
(3) 启动临时化学清洗泵开始对管系进行循环清洗,清洗时间的长短取决于当时的环境温度,原则上为48 h左右。
(4) 清洗期间应保持临时化学清洗泵连续运转。
(5) 清洗期间应使用木锤(或者气动振动装置)对清洗管路进行连续敲击,以震落管内杂质从而提高清洗效率。
(6) 清洗期间应定期检查滤器,并视滤纸清洁程度及时予以更换。持续循环清洗直至滤纸一直保持清洁为止,然后将管系泄放干净。
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