镀膜设备的镀膜方式及特点
镀膜设备就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽的设备。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。
镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀，镀膜设备的特点：成膜速度快0.1-50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。
真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别：
蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。真空镀膜机设备
溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
真空镀膜机实验设备的主要用途真空镀膜技术分析
真空镀膜机实验设备主要用于大专院校、科研单位、实验和研制之用。根据工艺要求研究出不同种类、不同规格、多功能的实验装置，或为某产品需要特研制的设备。
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