影响蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜性能的因素
响蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜性能的因素有：被蒸镀的基膜、蒸镀方法、蒸镀工艺条件对蒸镀氧化硅薄膜性能的影响等。
①塑料薄膜的类型：蒸镀的氧化硅膜与塑料薄膜之间的黏合牢度，与塑料基膜种类之间有较大的关系，PET、PVC等极性较大的薄膜与氧化硅之间的黏合性较佳，而非极性的薄膜与氧化硅之间的黏合力则比较差。
②塑料薄膜表面状态：蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜的阻隔性，除了受蒸镀层的厚度影响之外，更大程度上取决于氧化硅镀层的均匀性。裂缝、等缺欠，会导致蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜的阻隔性明显下降，缺陷的形成除了蒸镀层本身的化学成分与结构之外，所用基膜的表面平滑性也是一个重要因素，粗糙度越大，越容易造成蒸镀缺陷，但适量的粗糙度，会使蒸镀层和基膜的表面之间形成物理锚接，改善层间黏合力。
③塑料薄膜的表面预处理状况：为了得到的蒸镀薄膜，对基膜进行适度的表面电晕处理是十分必要的。塑料薄膜经过表面电晕处理，可在其表面形成氧化层，增大基膜与蒸镀涂层之间的结合力。在预处理设备一定的情况下，如果预处理时间不足，表面改性不充分，基膜与涂层之间的结合牢度不理想；预处理时间过长，则可能引起基膜较深层次的界面弱化，产生基膜自身的弱界面层，引起整个材料的结合力下降。
真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
镀膜技能在刀具、模具等金属切削加工东西方面的运用
在生活中咱们会看到金***的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些即是通过镀膜技能加工后的涂层东西。
（1）金***的是在刀具上涂镀了TiN、ZrN涂层。TiN是代运用广泛的硬质层资料。
（2）黑色的是在切削东西上涂了TiC、CrN涂层。
（3）钴铜色的是在刀具上镀涂了TiALN涂层。
镀膜机工艺在平板显现器中的运用一切各类平板显现器都要用到各品种型的薄膜，并且简直一切类型的平板显现器材都需求运用ITO膜，以满意通明电器的请求。能够毫不夸张的说：没有薄膜技能就没有平板显现器材。
第九：镀膜机工艺在太阳能运用方面的运用当需求有用地运用太阳热能时，就要思考选用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所导致的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20?m之间的红外波段。因为太阳辐射与热辐射光谱在波段上有
差异，因而，为了有用的运用太阳热能，就必须思考选用具有波长挑选特性的吸收面。抱负的挑选吸收面是太阳辐射光谱的波段（可见光波段）吸收率（α）为1，在热辐射波段（红外波段）辐射率（ε）为0。
