柔性电子卷绕真空镀膜设备
HCFLC系列卷绕镀膜设备为各种各样的柔性和可穿戴电子产品，传感器，RFID标签，智能玻璃，智能包装等提供了一种非常有竞争力和成本效益高的薄膜涂层技术。高质量低电阻率铜或TCO层和结构的应用，在满足当今和未来市场需求的同时，成功地弥合了生产率和多功能性之间的差距。
HCFLC系列是生产和研发的良好选择。几乎的可能性，在安排多达六组可旋转的旋转器和机器的能力，应用大量的现场测量传感器，使机器能够在生产环境中生产，同时又是非常灵活和灵活的，当作为一个研发机器使用。
这也使得该机成为诸如ITO膜、柔性印刷电路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等应用的。可旋转磁控管，涂层宽度为2000毫米，可能的衬底辊直径为500毫米，是高生产率的基础。
此外，相邻工艺段之间的可选气体分离允许在一个过程中沉积各种各样的金属和电介质层。
除了能够在非反应溅射工艺的同时运行反应溅射工艺外，HCFLC系列还可以配备各种原位传感器，用于连续、准确地监测所需的物理层特性，如层电阻率、反射率或透射比。
装饰性真空镀膜设备涂层的作用和要求
装饰性真空镀膜设备涂层的作用和要求装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种。为了满足产品的不同技术要求，可施涂底涂层和面涂层，或在面涂层上再施涂彩色涂层、保护涂层等。这些涂层的主要作用是：提高膜层的结合力。采用相同的镀膜方法，在塑料基体上施涂底涂层再真空镀膜，可提高膜层的结合力。降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度。一般镀件表面都存在微观不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填补镀件表面的缺陷，使镀件表面达镜面平整度。能保护金属膜层。真空镀膜层一般只有100nm，膜层的耐磨性和抗变色能力较差，施涂面涂层后，镀膜层与外界不直接接触，对镀膜层能起保护作用。
磁控溅射镀膜设备镀膜优势
磁控溅射镀膜机有很多种类型，有中频的，也有直流的。在生活中应用也是非常的广泛，如：手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、试听电子、工具、表壳、手机壳、五金等。它的优势也是非常的凸显.
磁控溅射镀膜设备配置了等离子体处理装置，磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好;该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。该设备主要广泛应用于电脑壳、手机壳、家用电器等行业，可镀制金属膜、合金膜、复合膜层、透明(半透明)膜、不导电膜、EMI电磁屏蔽膜等。
磁控溅射镀膜机将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一真空镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子贱出并部分离化沉积在基材成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其气化再沉积在基材上成膜，增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。