PACVD硬质涂层真空镀膜机系统的特点：
（1）2个等离子激发源（射频，直/直流脉冲）（2）安装在两边的2闭合场非平衡磁控管溅射（3）带有一个前门的六角形真空室，保证一个洁净的环境（4）干式真空系统设计安装在一个单独的空间，处理高吞吐量的碳氢化合物和其他工艺气体（5）基材和导电与非导电涂层及组合原位清洗的离子激发系统（6）可选择的等离子体激发模式和频率使等离子的密度和能量适应基材增压特性，以小压强进行电离作用（8）单独的PACVD工艺中不强制转动的时候，一种行星式转动也能够使溅射涂层统一沉积（9）特别是在PACVD过程特殊设计的进气系统能够优化涂层的均匀性和清洁度（10）泵的选择编排和上下的蒸汽压力调节，保证了涂层系统的高可靠性（11）iFIX基础的控制系统，易于批次、配方和报警处理（12）所有数据的采集，保证良好的过程控制。工艺过程中定制曲线图做到良好检查方案。在批次运行过程中，操作者也可更改或新建工艺（13）用户可自行设置进入控制系统的权限，以保证系统的质量和安全性
真空镀膜设备离子镀的类型及特点
离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。
表离子镀的种类及其特点
种类蒸发源离化方法工作环境特点用途
直流放电法电阻辉光放电dc:0.1kv～5kv惰性气体1pa，0.25ma/cm2结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！耐热，润滑等镀件
弧光放电法电子束、灯丝弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa离化率高，易制成反应膜，可在高真空下成膜，利于提高质量切削工具、金属装饰等镀件
空心阴极法空心阴极等离子体电子束dc:0v～200v惰性气体或反应气体离化率高，蒸发速度大，易获得高纯度膜层装饰、耐磨等镀件
调频激励法电阻、电子束射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性气体或反应气体离化率高，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差光学、半导体等镀件
电场蒸发法电子束二次电子dc:1kv～5kv真空不纯气体少，能形成较好的膜电子元件
多阴极法电阻、电子束热电子dc:0v～5kv惰性气体或反应气体低速电子离化效果好装饰、电子、精密机械等零件
聚焦离子束法电阻聚集离子束dc:0v～5kv惰性气体因离子聚束，膜层结合力强电子元件
活性反应法电子束二次电子dc:200v反应气体o2、n2、ch4、c2h4等金属与反应气体组合能制备多种倾倒物膜层电子、装饰、耐磨等镀件
多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用
多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化（带正电颗粒），从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的***,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物***相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。
