PVD技术都有那些分类呢
？PVD真空镀膜机物***相沉积是一种物***相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。那么这两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；PVD镀膜不会产生***或有污染的物质。
在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料（如锌合金、铜、铁等）的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
磁控真空镀膜机做渐变色原理
现在很多物件都镀有渐变色，颜色很绚丽也很显目，现在很多牌子手机壳也应用了这种渐变色，因此，渐变色也越来越受人们关注，渐变色制作原理也激起了大家的兴趣，今天至成小编为大家详细介绍一下真开工镀膜机做渐变色的原理和方法，希望能帮助到大家。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。而渐变色的工艺制法一般用的磁控溅射镀膜设备，目前华为、联想等多款手机渐变色外壳都采用了PVD真空渐变镀膜工艺。
磁控溅射真空镀膜设备是现有产品在真空条件下镀膜使用的多的一种设备，一台完整的磁控溅射真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能，从而实现终的镀膜，磁控溅射镀膜其组成包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵以及成膜控制系统等等。
磁控溅射真空镀膜机的主体是真空腔，真空腔大小是由加工产品所决定，磁控溅射镀膜的大小能定制，腔体一般是用不锈钢材料制作，要求结实耐用不生锈等。磁控溅射镀膜真空腔有许多连接阀用来连接各种辅助泵。
磁控溅射镀膜成膜控制系统能采用不同方式，比如固定镀制时间、目测、监控以及水晶震荡监控等。真空镀膜机、真空镀膜设备镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料。
真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程：
1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，随后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；
2、抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；
3、加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150℃~200℃之间；
4、Ar气分压，一般选择在0.01~1Pa范围内，以满足辉光放电的气压条件；
5、预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量；
6、溅射，Ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；
7、退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。
真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点：薄膜纯度高，致密，厚度均匀可控制，工艺重复性比较好，附着力强。
依据溅射源的不同，真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分，两者的主要区别在于气体放电方式不同，真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电，陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。
