高真空蒸发镀膜设备有哪些特点
真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
高真空蒸发镀膜设备具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产、操作方便，能耗低、工作稳定，且膜层均匀、成膜质量好等优点。该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等。
可镀基材表面状态：电镀亮面、哑光面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
引起镀膜玻璃膜层不均匀原因多方面
二次污染造成的洗净的玻璃在镀膜前需经过加热，抽真空和溅射等过程，而使玻璃再次污染，从而使玻璃镀膜后产生。玻璃加热过程中再污染是加热室或溅射室不干净，而对玻璃再污染，这些污染源主要来源于扩散泵返油、加热室或溅射室内脏、靶玻璃材溅射产生靶灰，残余气体压强高等诸多方面。因为一般的固体物质，每单位表面积上的分子数大约为10个左右，在常Pa的压强下，每秒钟撞表面的分子数大体上相当于覆盖物质积的分子数。在残余气体压强为10的情况下，假如以每秒一层原子左右的形成速度进行镀膜时，则蒸发的原子和残余气体的分子几乎是以相同的几率碰撞基片。在溅射过程中在充入气时压强为10～10时所形成膜的速度和蒸发条件下基本相同。
现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(QCM)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。光学监测是一种涂层优选的监控模式，镀膜机这是因为它能准确控制膜的厚度(如果使用得当)。
