真空镀膜机的特点
真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件表面﹐形成一层金属膜的方法﹒
真空镀膜设备真空电镀机真空电镀的特点:
1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格生产出啤件表面的形状
2、工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵﹒
3、蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低﹒
4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰﹒
5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷﹒
6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒
真空镀膜过程的均匀性到底多重要？
真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
1、厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2、化学组分上的均匀性：
就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
3、晶格有序度的均匀性：
这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
主要分类有两个大种类：一、对于蒸发镀膜：一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；2、基片表面温度；3、蒸发功率，速率；4、真空度；5、镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率.
真空镀膜机的结构与工作原理介绍
一、真空镀膜机的结构：
真空卷绕镀膜机由真空罐、真空抽气系统、蒸发系统、卷绕系统、冷却系统及电气系统组成。
真空罐是整台真空镀膜设备的主体部件，其结构为圆柱形筒体，左端为圆形封头封闭，右端的法兰与卷绕车的大圆板对接实现密封。
外部联接抽气管道，内部空间用于在真空状态中镀制产品，分为上下室，上室是基材卷绕室，下室是铝丝蒸发镀膜室。
二、真空镀膜机的工作原理：
真空罐的正面中上部装有可供观察基材运行情况和观察镀层质量的长方形观察窗，正面中下部装有可供观察送丝情况和蒸发舟加热状态的长方形观察窗，同时还装有可供观察收料轴、放料轴运转状况的圆形视窗各一个。
真空罐的背面中下部开有一方形的蒸发镀膜室抽气口，尾部圆封头处开有一圆形的卷绕室抽气口。真空罐的底部装有水箱，用于罐体的冷却，顶部装有真空测量规管用于测量真空室内的压力。
