真空镀膜设备的化学成分的分析从蒸发源射出的蒸汽流脱离蒸镀原料表面的时候温度很高，能量也比较高，在上升通过蒸发区到达基材表面的过程中，由于碰撞、运动中的能量交换导致动能下降，到达基材表面的粒子很快与基材交换能量，迅速沉积在其表面。在镀膜工艺中，离子轰击改善基材的表面，在蒸发区建立等离子气体以提高气化微粒功能等辅助手段，较好地解决了镀膜与基材结合牢固度的问题。其实在众多的镀膜工艺里，氧化物镀膜工艺和程序是有非常大的难度的，因为它面临着很多因素影响，环境和材料等等，但是氧化物的镀膜工艺却是受到广大的企业生产的亲睐。所以这种镀膜工艺和设备的发展趋势会越来越好！
镀膜PVD真空镀膜设备在涂层镀膜应用
PVD真空镀膜设备在工具涂层镀膜方面能够大幅度的延长产品的使用寿命。例如，在车刀、铣刀、刨刀、钻头等车削刀具上镀过PVD膜层后，其使用寿命能够提高5~40倍。同时由于PVD膜层的非常细腻及摩擦系数小的特点，机床的车削速度和被加工表面的光洁度也都有很大的提高。这使得生产企业的效率大幅提高，其产品的加工精度和外观也得到了改善，能够为企业带来更多的效益。
到现在PVD镀膜技术已在建筑材料、五金器具、锁具五金、厨房卫浴、五***表、和工具加工等行业得到了广泛而深入的应用，为这些行业带来了可观经济效益的同时也增强了它们的发展潜力。
今天越来越多的制造业、建筑业和设计业的工程师都非常认可这些PVD离子镀膜产品效果、特性和优势。
真空镀膜设备中频磁控溅射知识源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。
