新兴的光电材料生产、加工、清洗，LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。都应该使用多种纯化技术相结合制取高品质的纯水，这样才能大大提高纯水的纯度，符合用水需求。而临床实验用纯水设备采用双级反渗透技术与纯化、杀菌技术相结合，出水水质达到美国ASTM、NCCLS、CAP***级纯水标准。
集成电路超纯水设备工艺设计
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 (≥18MΩ、CM)(传统工艺)。
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0、2或0、5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ、CM)(新工艺)。
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0、2或0、5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ、CM)(新工艺)。
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0、2或0、5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ、CM)(新工艺)。