硅片模具加工如何选择光刻胶呢？
注意事项：
①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；
②看光刻机型式，若是投影方式，用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
③负性胶价格成本低，正性胶较贵；
④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；
⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，NR94 8000PY光刻胶，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害。
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光刻胶市场情况
目前光刻胶市场基本被日本和美国企业所垄断。光刻胶属于高技术壁垒材料，生产工艺复杂，纯度要求高，NR94 8000PY光刻胶哪里有，需要长期的技术积累。日本的JSR、东京应化、信越化学及富士电子四家企业占据了70%以上的市场份额，NR94 8000PY光刻胶哪家好，处于市场垄断地位。
光刻胶市场需求逐年增加，2018年半导体光刻胶销售额12.97亿美元。随着下游应用功率半导体、传感器、存储器等需求扩大，未来光刻胶市场将持续扩大。
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选择光刻胶需要注意什么
光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被拷贝在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是较好的，NR94 8000PY光刻胶公司，但实际应用中由于加工类型、加工要求、加工成本的考虑，需要对光刻胶进行合理的选择。
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